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德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)及清洗注意事項
時間：2016-10-21 來源： 北京德高潔清潔設備有限公司
目前，隨著光伏產業(yè)的快速發(fā)展，對多晶硅的需求量也日趨增大。在多晶硅生產設備中，還原爐是整個生產系統(tǒng)的關鍵部件，多晶硅生產企業(yè)要實現(xiàn)節(jié)能降耗就必須嚴格把控還原爐的運行。
眾所周知，對還原爐內壁進行清洗處理，就是降低能耗的一種有效的方式，通過提高還原爐內壁光潔度及光亮度，使還原爐在硅棒生長過程中，爐壁在高溫狀態(tài)下，對熱輻射反射率的最大化，從而起到降低能耗的作用。
德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)是以高壓清洗機為主機，以高壓水射流為動力的自驅動三維旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表面，從而完成鐘罩內部表面的水力掃射，并采用專用清洗劑等為主要清洗液，先用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，之后再采用高純水沖洗，最終完成清洗過程。
一、工作流程
還原爐鐘罩到位—預清洗—清洗劑(堿液)清洗—漂洗—高純水沖洗—凈化熱空氣干燥—常溫干燥—鐘罩吊走。
二、系統(tǒng)特點
1、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用進口高壓泵，耐酸堿、耐高溫。清洗作業(yè)時三維旋轉噴頭實現(xiàn)自驅動旋轉、自動升降、全方位自動清洗，保證多晶硅的純度；
2、設置10萬級空氣凈化換熱裝置代替原氮氣電加熱干燥還原爐體工藝；
3、自行研發(fā)設計的自驅動旋轉升降噴射機構，一套系統(tǒng)實現(xiàn)多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干；
4、由于清洗過程中會有氫氣和酸性物質產生，德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染；
5、德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)充分利用資源，設計了高壓堿液和清水的供給和分開回收裝置，并進行凈化使后序清洗水用于前序的漂洗工序；利用多晶硅生產廠家的蒸汽余熱將清洗介質加熱，從而改變原電加熱工藝。
三、注意事項
多晶硅還原爐內的殘留物及清洗液具有腐蝕性，同時清洗中殘留氯硅烷會發(fā)生水解伴有氫氣產生，容易產生爆鳴燃燒。因此，現(xiàn)場操作中，需要做好安全防護措施。
1、清洗過程中必須穿戴好勞保用品，戴防護手套；
2、用氫氧化鈉溶液擦洗基盤時操作要緩慢，以免摩擦生熱引起著火；
3、基盤清洗過程中要避免溶液流進進料管和尾氣管內造成二次污染，德高潔多晶硅還原爐鐘罩清洗系統(tǒng)采用全封閉式清洗裝置可完美解決二次污染的問題；
4、清洗中要保證將鐘罩烘烤干，避免有殘留水分；
5、清洗劑的選擇對清洗效果和作業(yè)安全有直接影響，這方面我公司積累了豐富的實踐經驗解決閃爆等問題。
- 標簽：
- 鐘罩
- 多晶硅
- 還原爐
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